Самсунг хиймэл оюун ухаанаар хагас дамжуулагчийн шинэ материал боловсруулах хугацааг гурван жилээр богиносгоно
Компани шинэ материал боловсруулах хугацааг таван жилээс хоёр жил болгож, ирээдүйтэй материалын тоог тав дахин нэмэгдүүлэхийг зорьж байна.

Самсунг Электроникс компани хагас дамжуулагчийн шинэ материал боловсруулахад шаардагдах хугацааг хиймэл оюун ухаан ашиглан гурван жилээр богиносгохоор зорьж байгаагаа Даваа гарагт мэдэгдсэнийг The Korea Times мэдээлэв. Компани энэ зорилгоо Солонгосын аж үйлдвэрийн холбооны форум дээр зарласан бөгөөд оролцогчид аж үйлдвэрийн судалгаа, хөгжүүлэлтэд хиймэл оюун ухаан ашиглах талаар ярилцжээ.
Компанийн судалгааны төв болох Самсунгийн дэвшилтэт технологийн хүрээлэнгийн ажилтан Чой Ён Сан хиймэл оюун ухаан ашиглан хагас дамжуулагчийн шинэ материал боловсруулах хугацааг таван жилээс хоёр жил болгож, ирээдүйтэй материалын тоог тав дахин нэмэгдүүлэхийг зорьж байна гэж хэлэв.
Түүний хэлснээр хагас дамжуулагчийн материал олон давхар нимгэн хальснаас бүрддэг тул долоон давхар бүтэц 100 сая гаруй боломжит хослолтой болдог ч судлаачид сард ердөө 50 орчим туршилт хийх боломжтой. Судлаачдын туршлага, зөн совинд тулгуурласан уламжлалт аргаар материал олоход хэдэн сар, бүр хэдэн жил шаардагдаж, бүтэлгүйтсэн туршилтын өгөгдлийг ч бүрэн ашигладаггүй байсныг тэрбээр онцолжээ.
Самсунг оновчтой нөхцөлийг тодорхойлоход шаардлагатай туршилтын тоог 80 гаруй хувиар бууруулахыг зорьж байгаа бөгөөд энэ арга нь хөгжүүлэлтийн зардлыг бууруулж, хиймэл оюун ухааны хэрэглээг батарейн материал зэрэг бусад салбарт өргөжүүлэх боломжтой гэж компани найдаж байна.
Энэ үйл явдлыг бусад эх сурвалж хэрхэн мэдээлсэн
Yonhap News Agency, англи хэлнээс
Samsung aims to cut chip material development time using AI



